氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。一段a(曲線ab段):無孔層形成。通電剛開始的幾秒到幾十秒時(shí)間內(nèi),鋁表面立即生成一層致密的、具有高絕緣性能的氧化膜,厚度約0.01~0.1微米,為一層連續(xù)的、無孔的薄膜層,稱為無孔層或阻擋層,此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過和膜層的繼續(xù)增厚。無孔層的厚度與形成電壓成正比,與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此,曲線ab段的電壓就表現(xiàn)出由零急劇增至*大值。
影響陽極氧化的氧化膜質(zhì)量的因素主要有:
1、攪拌和移動(dòng):可促使電解液對(duì)流,強(qiáng)化冷卻效果,保證溶液溫度的均勻性,不會(huì)造成因金屬局部升溫而導(dǎo)致氧化膜的質(zhì)量下降。
2、鋁合金成分:一般來說,鋁金屬中的其它元素使膜的質(zhì)量下降,且得到的氧化膜沒有純鋁上得到的厚,硬度也低,鋁氧化生產(chǎn)廠家,不同成分的鋁合金,在進(jìn)行陽極氧化處理時(shí)要注意不能同槽進(jìn)行。
影響陽極氧化氧化膜質(zhì)量的因素主要有:
氧化時(shí)間:氧化時(shí)間的選擇,取決于電解液濃度,溫度,陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時(shí),常州鋁氧化,膜的生長速度與氧化時(shí)間成正比;但當(dāng)膜生長到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,鋁氧化加工,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大,所以膜的生長速度會(huì)逐漸降低,到后面不再增加。
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