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膠片處理和底片質(zhì)量檢測

膠片處理

膠片處理一般應按膠片使用說明書的規(guī)定進行?？刹捎米詣記_洗或手工沖洗方式處理，推薦采用自動沖洗方式處理。原則上應采用膠片廠家生產(chǎn)或推薦的沖洗配方或藥劑，鍋爐年檢價格，并按照 GB/T 19348.的規(guī)定，經(jīng)比較試驗證明的條件下，也可以使用其他廠家的配方或藥劑。

手工沖洗和自動沖洗膠片宜在曝光后 8h之內(nèi)完成，長不得超過24。5.14.2底片質(zhì)量檢驗

暗室處理后的底片硫酸鹽離子的濃度一般應低于 .050g/m。底片上硫酸鹽離子的濃度測量可參考附錄 K的要求執(zhí)行，測量結(jié)果應記錄。

檢驗的頻率由檢測方確定，但在此期間暗室處置條件應保持不變。如果檢驗發(fā)現(xiàn)，硫酸鹽離子濃度大于 0.050g/m，應來取以下行動:

a)停止暗室處理，并采取糾正措施;

b重新核定影和沖序驗證的符合性

c)重新處置所有含有缺陷的底片。

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磁粉探傷能夠發(fā)現(xiàn)的缺陷具體包括：各類裂紋、夾雜、折疊、白點、氣孔等。具體是在被檢測對象表面確定缺陷的形狀、大小與位置，磁粉探傷性能，便于操作、檢測小開口至微米級的裂紋具有極高的靈敏度。僅在非磁性材料以及鐵磁性材料的表面與近表面檢測缺陷中適用，很難定位較深的缺陷。

滲透探傷具體分為熒光滲透與著色滲透。一般在表面裂紋、折疊、冷隔等缺陷檢測中應用。在使用與控制方面滲透檢測都比較簡單，檢測開度低于1微米的裂紋體現(xiàn)出極高的靈敏度。主要局限為：滲透液在一定程度上污染了零件與環(huán)境，云南鍋爐年檢，孔隙與表面粗糙形成附加背景，進一步對識別檢測結(jié)果造成干擾；此外其于對表面開口缺陷進行檢測。

渦流探傷具體在測量或者鑒別電導率、磁導率、晶粒尺寸等缺陷中應用；檢測折疊、裂紋、空洞等缺陷；測量非鐵磁性金屬基體上非導電涂層的厚度，或者磁鐵性金屬基體上非鐵磁性覆蓋層的厚度；還能夠在分選金屬材料中應用，并且對其成分、微觀結(jié)果以及其他性能差異實施檢測。靈敏度較低并且僅能對導電材料進行檢測制約了其應用范圍。在高溫狀態(tài)下對非接觸迅速檢測是其主要優(yōu)點。

通過上述分析可知這幾種方法檢測缺陷幾乎都存在局限性及應用范圍，無損檢測方法常規(guī)檢測中，具體利用射線照相探傷與超聲探傷檢測物體內(nèi)部缺陷；渦流探傷與磁粉探傷具體是對物體近表面和表面缺陷進行檢測；滲透探傷則對物體開口表面缺陷進行檢測。

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無損檢測工藝文件

檢測單位應制定無損測工藝文件，無損檢測工藝文件包括工藝規(guī)和操作指導書。應根據(jù)相關(guān)法規(guī)、產(chǎn)品標準、有關(guān)的技術(shù)文件和本標準的要求，并針對本檢測單位的特點和技術(shù)條件編制工藝規(guī)程工藝規(guī)程應按本部分B/T 7013.27013.13的定確其關(guān)因素的具體范圍或要求，鍋爐年檢機構(gòu)，如相關(guān)因素的變化超出規(guī)定時，應重新編制或修訂。應根據(jù)工藝規(guī)程并結(jié)合檢測對象的具體檢測要求編制操作指導書;操作指導書中的內(nèi)容應完整、明確和具體;操作指導書在應用時應進行工藝驗證，驗證可采用對比試塊、模擬試塊或直接在檢測對象上進行。無損檢測工藝文件的內(nèi)容應滿足本部分和 NB/T 47013.2 ~ 7013.13 的相關(guān)要求