Plasma 2000型ICP-OES測(cè)定污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅

鋼研納克

隨著城市污水處理量的增加，原子發(fā)射icp光譜儀價(jià)格，處理過(guò)程中產(chǎn)生的污泥總量也在不斷上升。污泥中除了含有豐富的有機(jī)物，還含有很多難以降解的金屬元素，如果處理不當(dāng)會(huì)造成更為嚴(yán)重的二次污染。因此對(duì)污泥中金屬元素含量的監(jiān)測(cè)尤為重要。本文采用微波消解的前處理方法，使用Plasma 2000型全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，建立了污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅6種元素測(cè)量方法，加標(biāo)回收率在93.4% - 106.6%之間，方法可靠，適用于污泥中金屬元素的測(cè)定。

實(shí)驗(yàn)過(guò)程

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儀器特點(diǎn)

觀測(cè)方式：徑向觀測(cè)

分光系統(tǒng)：中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，全譜瞬態(tài)直讀

檢測(cè)器：大面積背照式CCD芯片，高紫外檢出效率，寬動(dòng)態(tài)范圍

光源：固態(tài)射頻發(fā)生器，小體積

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儀器參數(shù)

表1 Plasma 2000工作條件

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實(shí)驗(yàn)方法

稱(chēng)取一定量污泥樣品，加入一定比例的混酸，使用微波消解儀消解。待樣品冷卻后取出，定容至100mL容量瓶待測(cè)。

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分析譜線

表2 Plasma 2000譜線選擇（nm）

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標(biāo)準(zhǔn)曲線

Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Zn標(biāo)準(zhǔn)溶液（國(guó)家鋼鐵材料測(cè)試中心，1000 μg/mL）配制曲線濃度如表3 ，線性相關(guān)系數(shù)大于0.999。

表3 標(biāo)準(zhǔn)曲線濃度（μg/mL）

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測(cè)定結(jié)果

在實(shí)際樣品中加入被測(cè)元素，其加標(biāo)回收率93.4%-106.6%為之間，滿足定量要求。

表4 實(shí)際樣品分析結(jié)果（%）

結(jié)論

本方法采用Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定污水處理廠中污泥中重金屬元素，加標(biāo)回收率介于93.4%-106.6%之間，適用于污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅等元素的檢測(cè)。

ICP 光譜儀是一種高精度的分析儀器，為了確保其長(zhǎng)期穩(wěn)定地工作，山東原子發(fā)射icp光譜儀，需要定期進(jìn)行保養(yǎng)。以下是一些常見(jiàn)的保養(yǎng)方法：

清理炬管：炬管是 ICP 光譜儀的重要部件之一，需要定期清理。清理炬管時(shí)，需要將炬管拆下，浸泡24小時(shí)，然后用去離子水沖洗干凈，然后用氮?dú)獯蹈伞Ｈ绻毓荏w有污染物沉積可用熱的稀王水（1:1體積比）浸泡后，去離子水沖洗干凈，原子發(fā)射icp光譜儀廠家，然后用氮?dú)獯蹈伞?/p>

清理霧室：霧室是 ICP 光譜儀的重要部件之一，需要定期清理。清理霧室時(shí)，需要將霧室拆下，用去離子水，然后用氮?dú)獯蹈伞?/p>

更換蠕動(dòng)泵管：蠕動(dòng)泵管是 ICP 光譜儀的進(jìn)樣系統(tǒng)，當(dāng)泵管沒(méi)有彈性時(shí)需要更換。更換蠕動(dòng)泵管時(shí)，需要將舊的蠕動(dòng)泵管拆下，然后換上新的蠕動(dòng)泵管。

更換火花塞：火花塞是 ICP 光譜儀的點(diǎn)火系統(tǒng)，需要定期更換。更換火花塞時(shí)，需要將舊的火花塞拆下，然后換上新的火花塞。

更換循環(huán)水：循環(huán)水是 ICP 光譜儀的冷卻系統(tǒng)，需要定期更換。更換循環(huán)水時(shí)，需要將舊的循環(huán)水放出，然后換上新的循環(huán)水，一般三個(gè)月為周期。

清理空氣過(guò)濾器：空氣過(guò)濾器是 ICP 光譜儀的空氣凈化系統(tǒng)，需要定期清理。清理空氣過(guò)濾器時(shí)，需要將空氣過(guò)濾器拆下，原子發(fā)射icp光譜儀廠家，用蒸餾水或無(wú)水乙醇清洗，然后用氮?dú)獯蹈伞?/p>

以上是一些常見(jiàn)的 ICP 光譜儀保養(yǎng)方法，具體的保養(yǎng)方法需要根據(jù)儀器的型號(hào)和使用情況來(lái)確定。在進(jìn)行保養(yǎng)時(shí)，需要注意安全，避免損壞儀器。

鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國(guó)產(chǎn)單道掃描ICP進(jìn)入固態(tài)光源時(shí)代

穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動(dòng)負(fù)載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測(cè)試，具有優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設(shè)計(jì)，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，快速定位，的位置重現(xiàn)。

具有低功率待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。

實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線，保障通訊可靠。