Plasma 2000型ICP-OES測(cè)定污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅
鋼研納克
隨著城市污水處理量的增加,處理過程中產(chǎn)生的污泥總量也在不斷上升。污泥中除了含有豐富的有機(jī)物,還含有很多難以降解的金屬元素,如果處理不當(dāng)會(huì)造成更為嚴(yán)重的二次污染。因此對(duì)污泥中金屬元素含量的監(jiān)測(cè)尤為重要。本文采用微波消解的前處理方法,使用Plasma 2000型全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,單道掃描ICP光譜儀價(jià)格,建立了污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅6種元素測(cè)量方法,加標(biāo)回收率在93.4% - 106.6%之間,方法可靠,適用于污泥中金屬元素的測(cè)定。
實(shí)驗(yàn)過程
1
儀器特點(diǎn)
觀測(cè)方式:徑向觀測(cè)
分光系統(tǒng):中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),全譜瞬態(tài)直讀
檢測(cè)器:大面積背照式CCD芯片,高紫外檢出效率,寬動(dòng)態(tài)范圍
光源:固態(tài)射頻發(fā)生器,小體積
2
儀器參數(shù)
表1 Plasma 2000工作條件
3
實(shí)驗(yàn)方法
稱取一定量污泥樣品,加入一定比例的混酸,使用微波消解儀消解。待樣品冷卻后取出,定容至100mL容量瓶待測(cè)。
4
分析譜線
表2 Plasma 2000譜線選擇(nm)
5
標(biāo)準(zhǔn)曲線
Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Zn標(biāo)準(zhǔn)溶液(國(guó)家鋼鐵材料測(cè)試中心,1000 μg/mL)配制曲線濃度如表3 ,線性相關(guān)系數(shù)大于0.999。
表3 標(biāo)準(zhǔn)曲線濃度(μg/mL)
6
測(cè)定結(jié)果
在實(shí)際樣品中加入被測(cè)元素,其加標(biāo)回收率93.4%-106.6%為之間,滿足定量要求。
表4 實(shí)際樣品分析結(jié)果(%)
結(jié)論
本方法采用Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定污水處理廠中污泥中重金屬元素,加標(biāo)回收率介于93.4%-106.6%之間,適用于污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅等元素的檢測(cè)。
為了保證 ICP 光譜儀的測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確,需要注意以下幾個(gè)方面:
標(biāo)準(zhǔn)化校準(zhǔn):ICP 光譜儀需要定期進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化校準(zhǔn),以確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。標(biāo)準(zhǔn)化校準(zhǔn)可以使用標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)或標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行,校準(zhǔn)后的儀器測(cè)量結(jié)果應(yīng)該與標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)或標(biāo)準(zhǔn)溶液的濃度一致。
樣品前處理:ICP 光譜儀的樣品前處理非常重要,如果前處理不當(dāng),會(huì)導(dǎo)致測(cè)量結(jié)果不準(zhǔn)確。在進(jìn)行樣品前處理時(shí),需要注意樣品的均勻性、代表性和清潔度,以確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。
儀器參數(shù)設(shè)置:ICP 光譜儀的參數(shù)設(shè)置也會(huì)影響測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。在進(jìn)行測(cè)量之前,需要根據(jù)樣品的性質(zhì)和測(cè)量要求設(shè)置正確的儀器參數(shù),如積分時(shí)間、等離子體功率等。
儀器維護(hù):ICP 光譜儀需要定期進(jìn)行維護(hù),以確保儀器的性能和測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。維護(hù)包括更換氬氣、清理炬管、更換蠕動(dòng)泵管等。
質(zhì)量控制:ICP 光譜儀的質(zhì)量控制是保證測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確的重要措施。質(zhì)量控制可以通過使用標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)或標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行測(cè)量,并與標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)或標(biāo)準(zhǔn)溶液的濃度進(jìn)行比較,以確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。
總之,為了保證 ICP 光譜儀的測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確,需要注意標(biāo)準(zhǔn)化校準(zhǔn)、樣品前處理、儀器參數(shù)設(shè)置、儀器維護(hù)和質(zhì)量控制等方面。
鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應(yīng)用的國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀制造商。,上市公司,品質(zhì)之選!
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