鋼研納克PlasmaMS 300 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 ICP-MS擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)

軟件著作權(quán)

1.《Imass質(zhì)譜軟件》V1.0.0，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀，2015R11S240625

文章

1.《一種四級桿質(zhì)譜儀真空測量系統(tǒng)及控制系統(tǒng)的研制》2017.2，期刊

2.《HPLC-ICP-MS 測定六種中藥中五種形態(tài)》，2016.10.北京光譜年會(huì)

3.《電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定鎳鎢合金中》2015.3.6，期刊

4.《不銹鋼薄板橫截面的激光剝蝕-電感耦合等離子體質(zhì)譜原位統(tǒng)計(jì)分布分析》2013.10

5.《電感耦合等離子體四級桿質(zhì)譜碰撞反應(yīng)池技術(shù)現(xiàn)狀與發(fā)展》，2013.3，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀廠家，期刊

6.《電感耦合等離子體四極桿質(zhì)譜離子光學(xué)系統(tǒng)的現(xiàn)狀和進(jìn)展》2013.3，期刊

7.《激光剝蝕電感耦合等離子體質(zhì)譜新進(jìn)展》， 2012.3，期刊

8.《電感耦合等離子體法測量錳鋅》；2014，冶金分析

為了使 ICP-MS 質(zhì)譜儀能夠準(zhǔn)確地分析樣品，需要進(jìn)行適當(dāng)?shù)臉悠非疤幚?，需要進(jìn)行適當(dāng)?shù)臉悠非疤幚?，以將待測元素從基體中電離出來，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀廠家，并將其轉(zhuǎn)化為易于電離的形式。常用的前處理方微波括濕法消解、干法灰化、微波消解等。

濕法消解是將樣品與酸或堿等試劑混合，在高溫下進(jìn)行消解，以將待測元素從基體中分離出來。干法灰化是將樣品在高溫下進(jìn)行灰化，以將待測元素從基體中分離出來。微波消解是將樣品在微波爐中進(jìn)行消解，以將待測元素從基體中分離出來。

在進(jìn)行樣品前處理時(shí)，需要注意以下幾點(diǎn)：

選擇適當(dāng)?shù)那疤幚矸椒ǎ焊鶕?jù)樣品的性質(zhì)和待測元素的性質(zhì)，選擇適當(dāng)?shù)那疤幚矸椒ā?/p>

控制樣品的量和濃度：樣品的量和濃度會(huì)影響 ICP-MS 質(zhì)譜儀的分析結(jié)果，因此需要控制樣品的量和濃度，以保證分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。

避免污染：在進(jìn)行樣品前處理時(shí)，需要避免污染，以保證分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。

控制消解溫度和時(shí)間：消解溫度和時(shí)間會(huì)影響 ICP-MS 質(zhì)譜儀的分析結(jié)果，因此需要控制消解溫度和時(shí)間，以保證分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。

進(jìn)行空白對照實(shí)驗(yàn)：在進(jìn)行樣品前處理時(shí)，需要進(jìn)行空白對照實(shí)驗(yàn)，以保證分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。

總之，為了使 ICP-MS 質(zhì)譜儀能夠準(zhǔn)確地分析樣品，需要進(jìn)行適當(dāng)?shù)臉悠非疤幚?，以將待測元素從基體中分離出來，并將其轉(zhuǎn)化為易于電離的形式。在進(jìn)行樣品前處理時(shí)，需要注意選擇適當(dāng)?shù)那疤幚矸椒?、控制樣品的量和濃度、避免污染、控制消解溫度和時(shí)間、進(jìn)行空白對照實(shí)驗(yàn)等。

ICP-MS裝機(jī)量已在8000臺(tái)以上，僅中國目前每年的新增裝機(jī)數(shù)就超過500臺(tái)。近三年來，國際上ICP?MS 的主要生產(chǎn)商推出了若干型號的四極桿式ICP-MS，如Agilent在2012年推出的8800型號、2014年推出的 7900型號，PerkinElmer于2014年推出的Nexion350系列型號、ThermoFisher于2012年推出的iCap-Q系列型號， 2014年德國耶拿完成對布魯克ICP-MS生產(chǎn)線的收購，并于今年2月推出的PlasmaQuant系列型號，而我國鋼研納克推出了國產(chǎn)ICP-MS PlasmaMS

300 。

四極桿ICP-MS的基本結(jié)構(gòu)由進(jìn)樣系統(tǒng)、離子源、錐及離子透鏡、四極桿分析器、真空系統(tǒng)和檢測器等硬件部

分組成（部分型號還包括用以消除干擾的反應(yīng)池部分），此外還包括用于冷卻系統(tǒng)、氣體管路、儀器控制和數(shù)據(jù) 分析系統(tǒng)等支撐輔助部分。下面我們按照ICP-MS的每一個(gè)結(jié)構(gòu)部分，看近年來的技術(shù)進(jìn)展。