微弧氧化膜的優(yōu)勢
微弧氧化膜與普通陽極氧化膜相比, 這種膜的空隙率大大降低,從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。目前,微弧氧化電源,微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti 等有色金屬或其合金的表面處理中。鎂合金微弧氧化技術(shù)所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相組成,總膜厚可達100 Lm以上, 具有明顯的三層結(jié)構(gòu): 外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。
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微弧氧化的原理
微弧氧化通過讓氧與鋁結(jié)合,實驗室微弧氧化電源,使鋁合金(輕質(zhì)但硬度、耐蝕性不足)表面原位生成一層氧化鋁陶瓷,使其表面變得質(zhì)硬且耐蝕,微弧氧化電源用途,進而達到了延長材料使用壽命的目的。同時,微弧電子學(xué)又是一種新型‘塑形’技術(shù),通過負電性等離子體對材料進行納米尺度選取剝離,實現(xiàn)以非接觸式方式加工出精密零件,微弧氧化電源價格,具有廣闊的應(yīng)用前景。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源
微弧氧化的應(yīng)用領(lǐng)域
微弧氧化技術(shù)生成陶瓷膜的特點決定了其特別適合于對高速運動且耐磨耐蝕性能要求高的部件處理。微弧化膜具備了陽極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優(yōu)點,可以部分替代它們的產(chǎn)品, 在用、航空、航天、機械、紡織、汽車、、電子、裝飾等許多領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。
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