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江蘇潤璽環(huán)保設備有限公司
主營：電鍍設備,清洗設備,水處理設備,廢氣處理設備,自動化設備
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隨著半導體芯片工藝技術節(jié)點進入 28 納米、14 納米等更等級，工藝流程的延長且越趨復雜，半導體設備，產線成品率也會隨之下降。造成這種現(xiàn)象的一個原因就是制程對雜質的敏感度更高，小尺寸污染物的清洗更困難。解決的方法主要是增加清洗步驟。每個晶片在整個制造過程中需要甚至超過 200 道清洗步驟，晶圓清洗變得更加復雜、重要及富有挑戰(zhàn)性。
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第4年
