1溫度對微弧氧化的影響
微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般為10-90度。溫度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會形成水氣。一般建議在20-60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。
2.時間對微弧氧化的影響
微弧氧化時間一般控制在10~60min。氧化時間越長,膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。
3.陰極材料
陰極材料可選用不銹鋼,碳鋼,鎳等,可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。
4
.后處理對微弧氧化的影響微弧氧化過后,工件可不經(jīng)過任何處理直接使用,微弧氧化,也可進行封閉,電泳,拋光等后續(xù)處理。折疊
微弧氧化技術(shù)特點
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜層為表面多孔(孔徑為幾微米)、內(nèi)部致密的陶瓷層。膜層硬度高(維氏硬度可由幾百至三千左右) 膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副,微弧氧化加工,摩擦率為4.9*10 -7mm3/Nm,摩擦系數(shù)0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蝕性
耐中性鹽霧腐蝕(按)≥400h ,可做至≥800h膜層無明顯腐蝕。
什么是微弧氧化?微弧氧化膜層生長過程是怎樣的?
微弧氧化技術(shù)(MAO)是在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一項新技術(shù),是在含有特定離子的電解液中,通過弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用,在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù),膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點。
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