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日照微弧技術(shù)有限公司
主營(yíng)：微弧氧化,微弧氧化技術(shù),微弧氧化電源,微弧氧化廠家
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微弧氧化工藝流程
1、預(yù)處理
預(yù)處理的原因是由于鋁、鐵等合金長(zhǎng)時(shí)間放置在空氣中，微弧氧化技術(shù)，表面易發(fā)生氧化，生成一層幾個(gè)微米的鈍化膜，同時(shí)，其表面又極易吸附周?chē)h(huán)境中的雜質(zhì)，形成表面吸附層。為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學(xué)性能，等離子微弧氧化技術(shù)，在微弧氧化處理前要對(duì)試樣表面進(jìn)行預(yù)處理。
日照微弧技術(shù)有限公司秉承“真誠(chéng)服務(wù)、信譽(yù)為先”的經(jīng)營(yíng)理念，非常注重產(chǎn)品質(zhì)量，微弧氧化技術(shù)實(shí)驗(yàn)，贏得了廣大客戶(hù)的一致好評(píng)，竭誠(chéng)歡迎新老客戶(hù)前來(lái)洽談、惠顧！
用正交試驗(yàn)法，微弧氧化技術(shù)要求，對(duì)影響7075鋁合金微弧氧化膜層致密性的電參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化。以膜層厚度和孔隙率作為指標(biāo)，以正向電壓、電流密度、正占空比和脈沖頻率作為因素設(shè)計(jì)，并開(kāi)展了四因素三水平的正交試驗(yàn)。使用掃描電鏡對(duì)正交試驗(yàn)后微弧氧化陶瓷膜層的表面形貌進(jìn)行了觀察；利用Image J軟件對(duì)陶瓷膜層的膜層厚度及孔隙率進(jìn)行測(cè)量。
結(jié)果表明：影響微弧氧化陶瓷膜層厚度的電參數(shù)順序從大到小依次為：正向電壓〉電流密度〉正占空比〉脈沖頻率；
影響微弧氧化膜層孔隙率的電參數(shù)順序從大到小依次為：正向電壓〉電流密度〉正占空比〉脈沖頻率；
采用綜合平衡法確定的電參數(shù)的優(yōu)化結(jié)果為：正向電壓550V、電流密度8 A/dm^2、正占空比20%、頻率400Hz。
微弧氧化如何動(dòng)電位極化曲線(xiàn)檢測(cè)？
采用電化學(xué)工作站的三電極體系進(jìn)行測(cè)試，測(cè)試前為了保證良好的導(dǎo)電性需將試樣一面的陶瓷膜層打磨掉，然后浸泡于質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%的NaCl水溶液中進(jìn)行測(cè)試。動(dòng)電位范圍設(shè)置為-0.2V~+0.4V(相對(duì)于開(kāi)路電位)，掃描速度為1mV/s。采用EchemAnalyst 軟件對(duì)極化曲線(xiàn)進(jìn)行Tafel 擬合得到電化學(xué)參數(shù)。
溫馨提示：以上是關(guān)于日照微弧氧化電源(圖)-微弧氧化技術(shù)實(shí)驗(yàn)-微弧氧化技術(shù)的詳細(xì)介紹，產(chǎn)品由日照微弧技術(shù)有限公司為您提供，如果您對(duì)日照微弧技術(shù)有限公司產(chǎn)品信息感興趣可以聯(lián)系供應(yīng)商或者讓供應(yīng)商主動(dòng)聯(lián)系您 ，您也可以查看更多與行業(yè)專(zhuān)用設(shè)備相關(guān)的產(chǎn)品！
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第6年
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