溶液溫度濃度對(duì)微弧氧化膜層性能的影響
1、微弧氧化溶液溫度低時(shí),氧化膜的生長(zhǎng)速度較快,膜致密,性能較佳。但溫度過低時(shí),氧化作用較弱,膜厚和硬度值都較低。
2、微弧氧化溶液溫度過高時(shí),堿性電解液對(duì)氧化膜的溶解作用增強(qiáng),致使膜厚與硬度顯著下降,且溶液易飛濺,膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好,這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。
3、溶液酸堿度:酸堿度過大或過小,溶解速度都加快,輕金屬微弧氧化公司,氧化膜生長(zhǎng)速度減慢,所以一般選擇弱堿性溶液。
4、溶液濃度:溶液濃度對(duì)氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源
微弧-電泳工藝簡(jiǎn)介
微弧電泳復(fù)合處理工藝是以微弧氧化處理工藝取代磷化(或陽(yáng)極氧化)等前處理,正是由于微弧氧化處理的工藝特點(diǎn)及其形成陶瓷層的表面特征,才得以實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)化電泳工藝、大幅度提高鋁、鎂合金耐蝕性的目的。
鋁合金微?。娪狙趸討?yīng)控制在5μ以下;鎂合金膜層控制在5-15μ為宜。
微弧-電泳工藝流程:氧化 — 清洗 — 噴淋清洗 — 熱風(fēng)烘干 — 電泳 — 噴淋清洗 — 烘干固化
微弧氧化封孔處理
由于微弧氧化陶瓷層表面分布著大量的微孔放電通道,腐蝕介質(zhì)能通過孔隙浸入鎂合金基體產(chǎn)生腐蝕,在微弧氧化后對(duì)鎂合金表面進(jìn)行封孔處理,在孔隙的吸附作用下,封孔劑循著這些微孔或裂紋進(jìn)入并填充,輕金屬微弧氧化,降低氧化膜的孔隙率,使外層疏松層逐漸變得致密,膜層與基體結(jié)合良好,復(fù)合膜層具有更加致密和均勻的微結(jié)構(gòu),腐蝕電位正移,腐蝕電流密度降低,腐蝕電阻增大,進(jìn)一步提升了MAO陶瓷層的耐蝕耐磨能力,輕金屬微弧氧化電源,同時(shí)可以增加膜層的色澤,改善膜層的美觀性,或?yàn)槠渌雍徒Y(jié)構(gòu)材料的制備提供優(yōu)良的襯底。
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