鍍膜可以顯著提高材料表面的硬度、抗腐蝕性、耐磨性、導熱性等性質,擴大材料的應用范圍。
通過定向壓應力、控制表面粗糙度等手段,還可以對材料的機械性能進行調節(jié)。
在真空環(huán)境下進行鍍膜,可以得到薄膜純度高、厚度可較準確控制的鍍層。膜厚可控性和重復性好,與基片的附著力強,膜層純度高、質量好。
PVD鍍膜能夠呈現(xiàn)出豐富多樣的顏色和光澤,從金屬色到各種彩色,滿足了不同產(chǎn)品的裝飾需求。
電鍍就是指可以拓展金屬材料的負極電流強度范疇、改進涂層的外型、加上水溶液化性的可靠性等特性的液體。如今PVD電鍍加工廠家在生產(chǎn)電鍍液的那時候都是碰到出泡的狀況,而這種泡沫塑料的產(chǎn)生不但造成產(chǎn)品品質不合格,還拖慢PVD鍍膜加工工藝流程,加上過多的成本,因此以便處理電鍍液出泡的狀況,電鍍液消泡助劑的出現(xiàn)就是因此研發(fā)的。
高頻率電鍍脈沖電鍍電源應用注意事宜
電鍍電源是一種新式的電鍍電源,臺灣真空微米鍍膜,都是電鍍制造行業(yè)中應用較多的一種開關電源。
真空腔體:這是鍍膜過程中的主要工作室,五金真空微米鍍膜,用于保持一定的真空度,以確保鍍膜過程的純凈性和效率。真空度通常需要在一定的范圍內控制,以優(yōu)化鍍膜效果。
加熱系統(tǒng):用于將有機高分子材料加熱至蒸發(fā)溫度。加熱系統(tǒng)可能包括電阻加熱器、電子束加熱器等。
蒸發(fā)源:這是有機高分子材料的來源。它可以是固態(tài)、液態(tài)或氣態(tài)的有機高分子材料,通過加熱或其他方式轉化為氣態(tài)物質。
基材夾持系統(tǒng):用于固定基材并控制其位置,以便在表面沉積薄膜。這個系統(tǒng)需要確保基材在鍍膜過程中的穩(wěn)定性和位置準確性。
控制系統(tǒng):用于監(jiān)控和調節(jié)鍍膜過程中的各項參數(shù),如溫度、真空度、膜層厚度等。控制系統(tǒng)通常包括溫度傳感器、真空計、膜厚監(jiān)測儀等設備。
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