溫度對微弧氧化的影響
微弧氧化與陽極氧化不同,輕金屬微弧氧化,所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高,輕金屬微弧氧化公司,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源
微弧氧化電源
微弧氧化電源設(shè)備是一種高壓大電流輸出的特殊電源設(shè)備,輸出電壓范圍一般為0~600V;輸出電流的容量視加工工件的表面積而定,一般要求6~10A/dm2。電源要設(shè)置恒電壓和恒電流控制裝置,輸出波形視工藝條件可為直流、方波、鋸齒波等波形。日照微弧氧化技術(shù)有限公司從事微弧氧化技術(shù)的研發(fā)以及設(shè)備的生產(chǎn)銷售,歡迎咨詢訂購。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源
微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜,與基體呈冶金結(jié)合,膜層致密,輕金屬微弧氧化設(shè)備,具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達(dá)到600-1500HV(膜層厚度20-50μm),耐磨性能優(yōu)于硬質(zhì)陽極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗水平可達(dá)2000小時以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性,耐500V以上的高壓沖擊,且有效防止電偶腐蝕;氧化膜還具有良好的隔熱特性,是鋁合金活塞的首要選擇。
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