微弧氧化的起源
微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷氧化膜的新技術(shù)。美國(guó)五十年代在某些兵工廠開(kāi)始研究陽(yáng)極火花沉積,前蘇聯(lián)從七十年代中期開(kāi)始獨(dú)立研究微弧氧化且具較高水平,鎂合金微弧氧化標(biāo)準(zhǔn),八十年代中、后期以來(lái)微弧氧化研究已成為國(guó)際研究熱點(diǎn)并開(kāi)始應(yīng)用,微弧氧化 鎂合金加工,九十年代初國(guó)內(nèi)開(kāi)始起步。微弧氧化在航空、航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用前景。
微弧氧化特點(diǎn)
(1)電解液呈弱堿性,對(duì)環(huán)境沒(méi)有污染;
(2)工藝簡(jiǎn)單,對(duì)工件的預(yù)處理只要求表面去油去污,不需去除表面的自然氧化層,鎂合金微弧氧化,適用于大規(guī)模自動(dòng)化產(chǎn)生;
(3)微弧氧化可以一次完成,也可以分幾次完成,而陽(yáng)極氧化一旦中斷就必須重新開(kāi)始;
(4)不需要真空或低溫條件。絕緣等特性。在航空航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
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微弧氧化的應(yīng)用
微弧氧化是通過(guò)用的微弧氧化電源在工件上施加高電壓,鎂合金微弧氧化黑色膜,使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用,在工件表面形成微弧放電,在高溫、電場(chǎng)等因素的作用下,金屬表面形成陶瓷膜,它是一種直接在有色金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷層的新技術(shù),與傳統(tǒng)的陽(yáng)極氧化法相比,微弧氧化陶瓷膜與基體結(jié)合牢固,結(jié)構(gòu)致密,具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應(yīng)用前景。
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