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鎂合金表面處理形成保護(hù)膜是提高M(jìn)g及鎂合金材料抗蝕性非常重要、非常有效的方法。近十幾年來(lái)，研發(fā)出了多種有效的表面處理工藝技術(shù)，大大擴(kuò)展了鎂合金材料的應(yīng)用范圍。鎂合金微弧氧化表面處理即是在鋁合金微弧氧化和普通陽(yáng)極氧化的基礎(chǔ)上開(kāi)發(fā)的一種新技術(shù)。
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微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于哪些方面？
目前微弧氧化技術(shù)根據(jù)其制備的膜層特性，在眾多領(lǐng)域有所應(yīng)用，如耐磨、耐腐蝕、耐高溫氧化、熱阻隔、生物活性、高阻抗等。尚有許多其他方面的應(yīng)用前景有待于進(jìn)一步挖掘。如果根據(jù)材料本身的應(yīng)用范圍來(lái)講，鋁合金可能希望改善其表面耐磨、耐腐蝕等性能，鎂合金耐腐蝕性能較差，進(jìn)行微弧氧化多為提高其表面耐腐蝕性能，生物材料用鎂合金需提高其生物相容性。鈦合金用于航空航天領(lǐng)域需提高膜層的耐高溫性能及耐腐蝕性能，微弧氧化電源，應(yīng)用于生物材料則通常需改善其生物活性。在一些電子元器件或電場(chǎng)中的器件，微弧氧化膜層可提高其絕緣特性。因此，鈦合金微弧氧化電源，微弧氧化技術(shù)應(yīng)用于何種領(lǐng)域需試環(huán)境而論。
陽(yáng)極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？
由微弧氧化膜層的生長(zhǎng)機(jī)理可知，陽(yáng)極氧化是微弧氧化的初級(jí)階段。陽(yáng)極氧化發(fā)生的是化學(xué)反應(yīng)，微弧氧化電源設(shè)備，而微弧氧化除化學(xué)反應(yīng)外，還伴隨有電化學(xué)、高溫等離子體等反應(yīng)。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過(guò)3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結(jié)合，因此與基體結(jié)合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，微弧氧化電源類(lèi)型，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結(jié)合力，膜層內(nèi)部致密性及相結(jié)構(gòu)。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層其它方面的性能差異。
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