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商丘金常來金屬制品有限公司
主營：金屬制品加工銷售
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PVD技術(shù)四個工藝步驟
(1)清洗工件：接通直流電源，山東表面鍍鈦加工，氣進(jìn)行輝光放電為離子，表面鍍鈦加工服務(wù)，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；
(2)鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。
靶材承受的功率密度是有限的.靶面溫度過高會導(dǎo)致靶材熔化或引起弧光放電.在直接水冷的情況下，金屬靶材的靶功率密度允許值為10~30W/cm2.根據(jù)選定的靶電壓和允許的靶功率密度，即可確定靶電流密度.
降低Ar壓強(qiáng)有利于提高鍍膜速率，還有利于提高膜層結(jié)合力和膜層致密度.磁控濺射的Ar壓強(qiáng)通常選為0.5Pa，氣體放電的阻抗隨Ar壓強(qiáng)的降低而升高.磁控濺射時，可以適當(dāng)調(diào)節(jié)Ar壓強(qiáng)，
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第5年
