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電鍍化學鎳是用恢復(fù)劑把溶液中的鎳離子恢復(fù)堆積在具有催化活性的表面上。化學鎳可以選用多種恢復(fù)劑，現(xiàn)在工業(yè)上使用廣泛的是以次磷酸鈉為恢復(fù)劑的化學鎳工藝，其反應(yīng)機理，廣泛被承受的是“氫化物理論”和“原子氫理論”。
1、氫化物理論
氫化物理論認為，化學電鍍鎳，次磷酸鈉分解不是放出原子態(tài)氫，化學鍍鎳表面，而是放出恢復(fù)才能更強的氫化物離子（氫的負離子H-），鎳離子被氫的負離子所恢復(fù)。在酸性鍍液中，H2PO2-在催化表面上與水反應(yīng)，在堿性鍍液中，則為鎳離子被氫負離子所恢復(fù)，即氫負離子H-一同可與H20或H+反應(yīng)放出氫氣：一同有磷恢復(fù)析出。
2、原子氫理論
原子氫理論認為，溶液中的Ni2+靠恢復(fù)劑次磷酸鈉（NaH2P02）放出的原子態(tài)活性氫恢復(fù)為金屬鎳，而不是H2PO2-與Ni2+直接作用。
先是在加熱條件下，次磷酸鈉在催化表面上水解釋放出原子氫，或由H 2PO2-催化脫氫發(fā)生原子氫，即然后，吸附在活性金屬表面上的H原子恢復(fù)Ni2+為金屬Ni堆積于鍍件表面．一同次磷酸根被原子氫恢復(fù)出磷，或發(fā)作自身氧化恢復(fù)反應(yīng)堆積出磷，H2的析出既可以是由H2POf水解發(fā)生，也可以是由原子態(tài)的氫結(jié)合而成。
化學鍍鎳工藝的反應(yīng)機理是用還原劑把溶液中的鎳離子還原沉積在具有催化活性的表面上。為提升化學鎳電鍍液的穩(wěn)定性，化學鍍鎳工藝進行了升級，即向原來只是鎳鹽和次亞磷酸鈉的混合鍍液中添加合適的絡(luò)合劑、穩(wěn)定劑、促進劑、緩沖劑等，形成穩(wěn)定很高的混合溶液。
隨著化學鍍工藝的成熟發(fā)展，化學鍍鎳廢液的處理的難度也增大，尤其是鎳離子的去除，導(dǎo)致化學鍍鎳廢液難處理的主要成分及作用如下：
鎳鹽：提供Ni2 ，一般用NiSO4·6H2O。鍍液中Ni2 的濃度為5-7g/L。
還原劑：常用的還原劑有次亞磷酸鹽。采用其作還原劑獲得Ni-P合金鍍層。
絡(luò)合劑：絡(luò)合劑能與鍍液中的鎳離子形成絡(luò)合鎳，控制可供反應(yīng)的游離鎳濃度，抑制亞磷酸鎳的沉淀。
對于絡(luò)合鎳，湛清研發(fā)出新的水處理藥劑—除鎳劑，此類除鎳劑無需經(jīng)過破絡(luò)等復(fù)雜環(huán)節(jié)，宣城化學鎳，可與化學鍍鎳廢液中的絡(luò)合鎳直接發(fā)生螯合反應(yīng)，產(chǎn)生沉淀，去除率達98%以上，將廢水中的總鎳含量處理至0.1mg/L以下，化學鍍鎳工藝，穩(wěn)定達標排放。
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