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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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用于電子照相成像裝置和噴墨成像裝置的導電輥是通過將導電性泡沫彈性體包覆于導電性金屬芯材的外周而制成的。所述導電性泡沫彈性體是通過將導電性材料分散在普通彈性體中以使該彈性體具有導電性，并使用空氣或者氮氣對彈性體進行機械發(fā)泡、或者使用發(fā)泡劑進行化學發(fā)泡而形成的。
導電輥，所述導電輥的電阻率幾乎不會隨著環(huán)境變化而改變。根據(jù)本發(fā)明的一方面，大連純金靶材，提供了一種導電輥，純金靶材誰家好，該導電輥包括導電性芯材，以及包覆于所述導電性芯材的外周的泡沫彈性層。
而未米的0.18um}藝甚至0.13m工藝，所需要的靶材純度將要求達到5甚至6N以上。銅與鋁相比較，銅具有更高的抗電遷移能力及更低的電阻率，能夠滿足！導體工藝在0.25um以下的亞微米布線的需要但卻帶米了其他的問題：銅與有機介質(zhì)材料的附著強度低．并且容易發(fā)生反應，純金靶材價格，導致在使用過程中芯片的銅互連線被腐蝕而斷路。
為了解決以上這些問題，需要在銅與介質(zhì)層之間設置阻擋層。阻擋層材料一般采用高熔點、高電阻率的金屬及其化合物，因此要求阻擋層厚度小于50nm，與銅及介質(zhì)材料的附著性能良好。銅互連和鋁互連的阻擋層材料是不同的．需要研制新的靶材材料。銅互連的阻擋層用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等．但是Ta、W都是難熔金屬．制作相對困難，如今正在研究鉬、鉻等的臺金作為替代材料。
任何金屬都不能達到純?！俺儭本哂邢鄬Φ暮x，是指技術(shù)上達到的標準。
由于技術(shù)的發(fā)展，也常使 “超純”的標準升級。“超純”的相對名詞是指“雜質(zhì)”，廣義的雜質(zhì)是指化學雜質(zhì)（元素）及“物理雜質(zhì)”（晶體缺陷），純金靶材回收，后者是指位錯及空位等，而化學雜質(zhì)是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。
但只當金屬純度達到很高的標準時（如純度9以上的金屬），物理雜質(zhì)的概念才是有意義的，因此目前工業(yè)生產(chǎn)的金屬仍是以化學雜質(zhì)的含量作為標準，即以金屬中雜質(zhì)總含量為百萬分之幾表示。
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第8年
