微弧氧化處理
微弧氧化工藝是在陽極氧化基礎(chǔ)上建立起來一種新型的金屬表面處理技術(shù)。其原理將是AI、Mg、Ti等金屬及其合金置于電解質(zhì)水溶液中,通過脈沖電參數(shù)和電解液的匹配調(diào)整,在強(qiáng)電場作用下在材料表面出現(xiàn)微區(qū)弧光放電現(xiàn)象,在熱化學(xué)、等離子體化學(xué)和電化學(xué)共同作用下,在金屬表面原位生長出一層陶瓷層,以起到改善材料表面的耐磨性、耐腐性、耐熱沖擊性及絕緣性的作用。
微弧氧化突破了傳統(tǒng)的法拉第區(qū)域進(jìn)行陽極氧化的框架,等離子拋光加工,將陽極氧化的電壓由幾十伏調(diào)高到幾百伏,由小電流發(fā)展城大電流,由直流發(fā)展到交流,導(dǎo)致基體表面出現(xiàn)電暈、輝光、微弧放電、火花斑等現(xiàn)象,從而能對氧化層進(jìn)行等離子體的高溫高壓處理,等離子拋光加工廠在哪里,使非晶結(jié)構(gòu)的氧化層發(fā)生相和結(jié)構(gòu)上變化。微弧氧化工藝以其技術(shù)簡單、、無污染、處理工件能力強(qiáng)等特點(diǎn),而具有廣闊的應(yīng)用前景。
等離子拋光加工等離子拋光的三個主要優(yōu)點(diǎn)是成本更低,該過程更環(huán)保,并且具有該技術(shù)獨(dú)有的表面下?lián)p傷去除效果。等離子拋光晶圓與CMP晶圓比較而言,一直到二極管和MOSFET器件生成,完整的晶圓電氣性能和良率結(jié)果已經(jīng)與CMP相當(dāng)(圖1)。
等離子拋光劑不使用消耗性有毒漿料,因此避免了相關(guān)的處置問題和高用水量,消除這些工藝要求可以將運(yùn)營成本降低多達(dá)85%。此外,該步驟上游的材料要求不需要改變,之后的工藝也看不到等離子拋光晶圓和CMP晶圓之間的差異。
等離子拋光加工
等離子拋光原理
等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài),是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象,使氣態(tài)粒子部分電離,這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下,拋光劑水溶,在高溫高壓下,電子會脫離原子核而跑出來,不銹鋼等離子拋光加工廠,原子核就形成了一個帶正電的離子,當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r,頃刻間會使物體達(dá)到表面光亮的效果。
等離子拋光加工
等離子電漿拋光是一種表面處理技術(shù),等離子拋光加工廠,通常用于提高材料表面的光潔度和耐蝕性。這種技術(shù)利用等離子體生成的高能粒子對材料表面進(jìn)行加工,能夠去除微小的凹凸和污染物,從而使表面更加平滑和清潔。等離子電漿拋光常用于各種材料,如金屬、陶瓷和塑料等,以改善其功能性和美觀性。
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