背靶的選擇
對材質(zhì)的要求:一般選用無氧銅和鉬靶,厚度在3mm左右
導電性好:常用無氧銅,無氧銅的導熱性比紫銅好;
強度足夠:太薄,易變形,鞍山2N金靶材,不易真空密封。
結構要求:空心或者實心結構;
厚度適中:3mm左右,太厚,消耗部分磁強;太薄,容易變形。
銦焊綁定的流程
1.綁定前的靶材和背板表面預處理
2.將靶材和背板放置在釬焊臺上,升溫到綁定溫度
3.做靶材和背板金屬化
4.粘接靶材和背板
而未米的0.18um}藝甚至0.13m工藝,所需要的靶材純度將要求達到5甚至6N以上。銅與鋁相比較,銅具有更高的抗電遷移能力及更低的電阻率,能夠滿足!導體工藝在0.25um以下的亞微米布線的需要但卻帶米了其他的問題:銅與有機介質(zhì)材料的附著強度低.并且容易發(fā)生反應,2N金靶材報價,導致在使用過程中芯片的銅互連線被腐蝕而斷路。
為了解決以上這些問題,需要在銅與介質(zhì)層之間設置阻擋層。阻擋層材料一般采用高熔點、高電阻率的金屬及其化合物,因此要求阻擋層厚度小于50nm,與銅及介質(zhì)材料的附著性能良好。銅互連和鋁互連的阻擋層材料是不同的.需要研制新的靶材材料。銅互連的阻擋層用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等.但是Ta、W都是難熔金屬.制作相對困難,如今正在研究鉬、鉻等的臺金作為替代材料。
陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,2N金靶材哪家好,二硼化鋯靶,2N金靶材價格,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
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