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東莞拉奇納米科技有限公司
主營：納米鍍膜
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光學(xué)鍍膜：真空鍍膜技術(shù)在光學(xué)鍍膜制造中占據(jù)地位。通過控制鍍膜材料的蒸發(fā)或?yàn)R射過程，可以在光學(xué)元件（如鏡片、反射鏡、濾光片等）表面形成具有特定光學(xué)性能的薄膜層，橡膠化學(xué)氣相沉積，如抗反射膜、增透膜、濾光膜等。這些鍍膜能夠減少反射、增強(qiáng)透過率、實(shí)現(xiàn)特定波長的選擇性透過或反射，從而提高光學(xué)系統(tǒng)的性能和效率。
光學(xué)器件：在激光器和光學(xué)器件中，真空鍍膜技術(shù)用于制造的反射鏡、窗口和透鏡等關(guān)鍵部件。這些部件的鍍膜層能夠承受高功率激光的照射而不受損，同時保持優(yōu)異的光學(xué)性能，確保光學(xué)系統(tǒng)的穩(wěn)定性和可靠性。
真空鍍膜加工工藝中，飾品化學(xué)氣相沉積，要求裝配到高真空環(huán)境的零件，事先都需要小心地進(jìn)行清洗處理，否則各種污染物可成為大量氣體和蒸氣的來源，會大大延長真空器件的排氣時間，不易獲得高真空。
真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前，工件須在鍍膜前仔細(xì)清洗。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。
電鍍加工把浸鋅液的溫度一般控制在70℃~80℃為好。浸鋅時間過短，無法得到高密度鋅層，浸鋅時間過長，鋅層過厚，松散，浸鋅時間一般控制在5min~15min，高埗化學(xué)氣相沉積，鋅層薄厚以2.5μm~2.8μm為好。
真空電鍍的簡單作用過程：真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源，真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，真空電鍍進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。真空鍍膜設(shè)備的維護(hù)保養(yǎng)等許多技能都是一樣的，有著豐富的經(jīng)驗(yàn)來應(yīng)對各種情況，保證良好的效果。
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