微弧氧化的工藝參數(shù)
微弧氧化的工藝參數(shù)是指加工件上的外加電壓,微弧氧化技術(shù) 參數(shù),一般說終電壓決定微弧氧化膜的厚度,微弧氧化技術(shù)優(yōu)點,它是不斷升高而達到的,不能一次性加至終電壓。微弧氧化膜的基本特性是與待處理材料及其表面狀態(tài)有關(guān)的,也與槽液類型、電解質(zhì)溶液成、外加電壓、電流密度、槽液溫度和攪拌等因素有關(guān)。其中特別是加在工件上的電壓與電流密度對于氧化膜的性能至關(guān)重要。微弧氧化過程中有一個很大的優(yōu)點就是外加電源突然中斷時可以直接繼續(xù)進行氧化,不需要除去工件上的氧化膜,也不必更換樣品重新處理。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線
微弧氧化技術(shù)的特點是什么
微弧氧化技術(shù)是新型的環(huán)保的技術(shù),下面咱們一起了解一下微弧氧化技術(shù)的優(yōu)點。
1、微弧氧化有良好的絕緣性能,絕緣電阻可達100mω。
2、微弧氧化電解溶液為環(huán)保型,符合環(huán)保排放要求。
3、微弧氧化工藝,設(shè)備工藝簡單,.
4、微弧氧化反應(yīng)在常溫下進行,微弧氧化技術(shù),操作方便,易于掌握。
5、微弧氧化的基體原位生長陶瓷膜,結(jié)合牢固,陶瓷膜致密均勻。此工藝可代替并優(yōu)于陽極氧化工藝。
微弧氧化
微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等,是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合,鋁合金微弧氧化技術(shù),在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用,原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中,化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。
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