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日照微弧技術(shù)有限公司
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負(fù)占空比對(duì)鈦合金微弧氧化膜層的影響
恒壓模式下，利用自制的多功能微弧氧化設(shè)備在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH電解液體系中制備了鈦合金陶瓷膜，采用掃描電鏡、X射線衍射儀等考察了負(fù)占空比(dc)對(duì)鈦合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相組成及耐蝕性的影響。結(jié)果表明：隨著dc的增加，膜層厚度減??；膜層表面呈典型的多孔陶瓷結(jié)構(gòu)，隨dc的增大，膜層表面微孔數(shù)量減少，孔徑增大且有裂紋產(chǎn)生；膜層相組成主要為Ti、金紅石及銳鈦礦TiO2，在dc=45%時(shí)基體衍射峰消失。相對(duì)基體而言，膜層的硬度及耐蝕性都具有較大的提高；隨dc增加，輕金屬微弧氧化價(jià)格，膜層硬度增強(qiáng)，耐蝕性有一定程度的減弱。
ZL205A微弧氧化膜層耐蝕性能研究
利用硅酸鹽復(fù)合電解液體系，在ZL205A上采用微弧氧化法制備膜層。
所用的工藝參數(shù)為：恒流控制，電流密度3 A/dm^2，頻率500 Hz，終止電壓450 V。利用掃描電鏡對(duì)該膜層的形貌及結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析；對(duì)膜層的化學(xué)成分進(jìn)行分析；采用極化曲線評(píng)價(jià)膜層的耐蝕性。
結(jié)果表明：所制備的微弧氧化膜層能提高ZL205A的耐蝕性。
微弧氧化的步驟
一、陽極氧化階段
將樣品置于一定的電解液中，輕金屬微弧氧化公司，通電后，樣品外表和陰極外表呈現(xiàn)無數(shù)細(xì)小的平均的白色氣泡，而且隨電壓升高，氣泡逐步變大變密，生成速率也不時(shí)加快。在到達(dá)擊穿電壓之前，這種現(xiàn)象不斷存在，輕金屬微弧氧化技術(shù)，這一階段就是陽極氧化階段。
二、火花放電階段
當(dāng)施加到樣品的電壓到達(dá)擊穿電壓時(shí)，樣品外表開端呈現(xiàn)無數(shù)細(xì)小、亮度較低的火花點(diǎn)。這些火花點(diǎn)密度不高，輕金屬微弧氧化，無爆鳴聲。在該階段，樣品外表開端構(gòu)成陶瓷層，但陶瓷層的生長速率很小，硬度和致密度較低，所以應(yīng)盡量減少這一階段的時(shí)間。
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第6年
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