真空納米鍍膜:利用真空環(huán)境,通過物理或化學(xué)方法(如蒸發(fā)、濺射等)將納米級材料沉積到基材表面,形成一層具有特定功能的薄膜。這種鍍膜方式不需要使用溶液或電能液,是一種干式鍍膜方法。
普通電鍍:則是利用電解原理,在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中,金屬真空微米鍍膜,以鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極,通過電解作用使鍍層金屬的陽離子在待鍍工件表面被還原,形成鍍層。電鍍過程中,鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極,待鍍的工件做陰極,鍍層金屬的陽離子在待鍍工件表面被還原形成鍍層。
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