微弧氧化是一種金屬表面陰陽(yáng)極放電的現(xiàn)象。我們平時(shí)見到的電焊是一種大的電弧,把一平方厘米的電弧分解成一平方微米的小的弧點(diǎn),就可以稱為微弧。一平方厘米電弧可以分解出來(lái)10億個(gè)以上的小弧斑,再把弧的開斷時(shí)間控制在百萬(wàn)分之一秒內(nèi),這個(gè)小弧斑可以在物質(zhì)表面形成融溶噴射現(xiàn)象。這種現(xiàn)象在物體的陽(yáng)極和陰極會(huì)有不同的物理特性,我們利用這種特性就可以進(jìn)行金屬表面鍍膜、拋光等精密處理。
微弧氧化技術(shù)又稱微等離子體氧化或陽(yáng)極火花沉積,實(shí)質(zhì)上是一種高壓的陽(yáng)極氧化,是一種新型的金屬表面處理技術(shù)。該工藝是在適當(dāng)?shù)拿}沖電參數(shù)和電解液條件下,使陽(yáng)極表面產(chǎn)生微區(qū)等離子弧光放電現(xiàn)象,陽(yáng)極上原有的氧化物瞬間熔化,鋁微弧氧化加工,同時(shí)又受電解液冷卻作用, 進(jìn)而在金屬表面原位生長(zhǎng)出陶瓷質(zhì)氧化膜的過(guò)程。
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陽(yáng)極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么?
由微弧氧化膜層的生長(zhǎng)機(jī)理可知,陽(yáng)極氧化是微弧氧化的初級(jí)階段。陽(yáng)極氧化發(fā)生的是化學(xué)反應(yīng),而微弧氧化除化學(xué)反應(yīng)外,還伴隨有電化學(xué)、高溫等離子體等反應(yīng)。其膜層由于是在高溫下生成(瞬間高溫度超過(guò)3K攝氏度),膜層與基體間為冶金結(jié)合,因此與基體結(jié)合良好。另外,膜層為氧化物瞬間冷凝形成,鈦微弧氧化加工涂層,具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能,微弧氧化加工,良好的絕緣性等。但歸跟到底,微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層醉的的差別在于:膜與基體的結(jié)合力,膜層內(nèi)部致密性及相結(jié)構(gòu)。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層其它方面的性能差異。
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