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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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濺射靶材ITO靶材的生產(chǎn)工藝 ITO靶材的生產(chǎn)工藝可以分為3種：熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結(jié)法。各種生產(chǎn)工藝及其特點簡介如下：
熱等靜壓法：ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預(yù)先成形的胚體，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結(jié)。熱等靜壓工藝制造產(chǎn)品密度高、物理機械性能好，銀蒸發(fā)鍍靶材價格，但設(shè)備投入高，生產(chǎn)成本高，產(chǎn)品的缺氧率高。
熱壓法：ITO靶材的熱壓制作過程是在石墨或氧化鋁制的模具內(nèi)充填入適當(dāng)粉末以后，以 100kgf/cm 2～1000kgf/cm 2的壓力單軸向加壓，同時以1000℃～1600℃進行燒結(jié)。熱壓工藝制作過程所需的成型壓力較小，燒結(jié)溫度較低，燒結(jié)時間較短。但熱壓法生產(chǎn)的ITO靶材由于缺氧率高，大連銀蒸發(fā)鍍靶材，氧含量分布不均勻，從而影響了生產(chǎn)ITO薄膜的均勻性，且不能生產(chǎn)大尺寸的靶。
背靶的選擇
對材質(zhì)的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右
導(dǎo)電性好：常用無氧銅，無氧銅的導(dǎo)熱性比紫銅好；
強度足夠：太薄，易變形，銀蒸發(fā)鍍靶材回收，不易真空密封。
結(jié)構(gòu)要求：空心或者實心結(jié)構(gòu)；
厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。
銦焊綁定的流程
1.綁定前的靶材和背板表面預(yù)處理
2.將靶材和背板放置在釬焊臺上，升溫到綁定溫度
3.做靶材和背板金屬化
4.粘接靶材和背板
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第8年
