微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜,與基體呈冶金結(jié)合,膜層致密,具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達(dá)到600-1500HV(膜層厚度20-50μm),耐磨性能優(yōu)于硬質(zhì)陽極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗(yàn)水平可達(dá)2000小時(shí)以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性,耐500V以上的高壓沖擊,且有效防止電偶腐蝕;氧化膜還具有良好的隔熱特性,是鋁合金活塞的首要選擇。
微弧氧化技術(shù)
微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域,克服了硬質(zhì)陽極氧化的缺陷,等離子微弧氧化技術(shù),極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固,結(jié)構(gòu)致密,韌性高,微弧氧化技術(shù),具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術(shù)具有操作簡單和膜層功能可控的特點(diǎn),而且工藝簡便,環(huán)境污染小,是一項(xiàng)全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術(shù),在航空航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源
微弧氧化現(xiàn)象及特點(diǎn)
在陽極氧化過程中,當(dāng)鋁合金上施加的電壓超過一定范圍時(shí),微弧氧化技術(shù) 參數(shù),鋁合金表面的氧化膜就會(huì)被擊穿。隨著電壓的繼續(xù)不斷升高,氧化膜的表面會(huì)出現(xiàn)輝光放電,微弧和火花放電燈現(xiàn)象。在微弧氧化的過程下,原來生產(chǎn)的氧化膜不會(huì)脫落,只有表面一部分氧化膜可能會(huì)被粉化而沉淀在溶液中,脫落的表面可以繼續(xù)氧化,隨著外加電壓的升高,手機(jī)殼微弧氧化技術(shù),或時(shí)間的延長,微弧氧化膜厚度會(huì)不斷增加,直至達(dá)到外加電壓所對應(yīng)的終厚度。
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