氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展三

（1）電子行業(yè)

微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。

（2）真空行業(yè)，儀器、儀表行業(yè)

管道、接頭、閥門、波紋管、各種真空泵、各類排氣機(jī)組、電鏡、質(zhì)譜儀、電子束離子速暴光機(jī)、激光軸分離器、高能加1速器、加1速器、輻照加1速器、鍍膜機(jī)、薄膜真空計(jì)。

（3）核工業(yè)

鈾分離裝置、存儲(chǔ)裝置、核發(fā)電裝置。

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氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)

檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度，正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測(cè)時(shí)，在漏點(diǎn)處噴射氦氣5～10s后，檢漏儀就發(fā)生響應(yīng)，汽車空調(diào)測(cè)漏設(shè)備，對(duì)于如此龐大的真空系統(tǒng)，其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。

檢漏時(shí)噴在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍，該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間，即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間，當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn)，兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒有反應(yīng)，則可進(jìn)行第二次噴氦。

清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同，但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響，清除時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。筆者測(cè)算，在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須1分鐘；在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須2分鐘；在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間在3分鐘左右。

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什么是氦質(zhì)譜檢漏儀

氦質(zhì)譜檢漏儀品牌淺析什么是氦質(zhì)譜檢漏儀

氦質(zhì)譜檢漏儀可靠的廣泛的市場(chǎng)應(yīng)用，此款氦質(zhì)譜檢漏儀適用于工業(yè)、分析研究、鍍膜市場(chǎng)等。此款氦質(zhì)譜檢漏儀堅(jiān)固耐用，抗震性能極強(qiáng)，可反復(fù)使用數(shù)年仍保證的檢漏漏率。氦質(zhì)譜檢漏儀緊湊的設(shè)計(jì)適合串列生產(chǎn)和持續(xù)工作。氦質(zhì)譜檢漏儀主要特點(diǎn)：前級(jí)泵配備抽速高達(dá)15 m3/h 旋片泵，對(duì)氦氣抽速可達(dá) 2.5l/s，氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 對(duì)氦氣的蕞小檢測(cè)漏率：

真空模式：5 · 10-13 Pa m3/s

吸的模式：5 · 10-10 Pa m3/s

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